以下关于“本征半导体”与“杂质半导体”的描述正确的是()
A.受主杂质电离可以为半导体提供导电电子
B.本征半导体中载流子由本征激发产生
C.n型半导体主要依靠导带电子导电
D.纯净无杂质、结构理想无缺陷的半导体是本征半导体
A.受主杂质电离可以为半导体提供导电电子
B.本征半导体中载流子由本征激发产生
C.n型半导体主要依靠导带电子导电
D.纯净无杂质、结构理想无缺陷的半导体是本征半导体
第1题
A、纯净无杂质、结构理想无缺陷的半导体是本征半导体。
B、实际的半导体材料总是存在杂质和缺陷的,只要杂质和缺陷在一定限度内,就可看作是本征半导体。
C、本征半导体掺入杂质可形成杂质半导体。
D、本征半导体掺入施主杂质可形成n型半导体,掺入受主杂质可形成p型半导体。
E、n型半导体依靠导带电子导电。
F、p型半导体依靠价带空穴导电。
G、本征半导体中载流子由本征激发产生。
H、本征半导体中导带电子浓度等于价带空穴浓度。
I、施主杂质电离可以为半导体提供导电电子。
J、受主杂质电离可以为半导体提供导电空穴。
K、杂质半导体中载流子主要靠杂质电离产生。
L、杂质半导体中也存在本征激发的过程。
第2题
A.在本征半导体中掺入施主杂质,可以获得N型半导体,掺杂后电子为多子,空穴为少子;
B.在本征半导体中掺入施主杂质,可以获得P型半导体,掺杂后电子为多子,空穴为少子;
C.在本征半导体中掺入受主杂质,可以获得N型半导体,掺杂后空穴为多子,电子为少子;
D.在本征半导体中掺入受主杂质,可以获得P型半导体,掺杂后电子为多子,空穴为少子。
第5题
A.本征半导体是一块没有杂质和缺陷的半导体
B.本征半导体的费米能级位于禁带的中线附近
C.本征半导体中导带电子浓度等于价带空穴浓度
D.本征半导体的电阻率随温度升高而单调下降
第7题
A.本征半导体呈电中性,杂质半导体呈电性
B.本征半导体和杂质半导体均呈电中性
C.硅材料的温度特性比锗材料好,因为其禁带宽度较大
D.锗材料的温度特性比硅材料好,因为其禁带宽度较小
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