以下几种光刻方法中，属于光学曝光的是

A、电子束光刻

B、离子束光刻

C、X射线光刻

D、浸润式光刻

A. 出票人未签章

B. B.出票时出票日期未填写的支票

C. C.出票时付款人未填写的支票

D. D.出票时收款人未填写的支票

E. E.出票时付款日期未填写的支票

A、Z检验

B、t检验

C、H检验

D、F检验

A、电弧焊

B、电阻焊

C、激光焊

D、摩擦焊

A. 沉管法

B. 盖挖法

C. 顶进法

A. 缓解疏导法，

B. B.以优补劣法

C. C.创造时间说服法

D. D.争辩法

A. 气体膨胀制冷

B. 热电制冷

C. 液体汽化制冷

D. 涡流管制冷

A、控制培养基配方

B、控制酸碱度

C、加特殊抑制剂

D、控制氧气、温度等条件

A. 千法灰化

B. 湿法灰化

C. 火焰光度法

D. 滴定法

A. 齐头齐尾

B. B.齐头不齐尾

C. C.齐尾不齐头

D. D.齐中不齐偏

E. E.齐左不齐右