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简述化学机械抛光的工艺特点

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第1题

化学机械抛光CMP工艺中影响抛光质量的三大关键要素是()。
A、抛光机

B、抛光液

C、抛光垫

D、后清洗设备

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第2题

下面选项中不属于化学机械抛光CMP工艺缺点的选项是?()
A、影响平坦化质量的工艺因素很多且不易控制

B、CMP进行平坦化的同时也会引入新的缺陷

C、需要配套的设备、材料、工艺控制技术,这是一个需要开发、提高的系统工程

D、设备、技术、耗材比较便宜,维护也较为简单

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第3题

化学机械抛光CMP工艺是最先进最广泛应用的抛光技术,抛光技术非常成熟,不会产生任何缺陷。()

此题为判断题(对,错)。

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第4题

简述铝合金化学氧化的工艺流程。
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第5题

氧化硅的化学机械抛光是集成电路制造中最先进和最广泛的平坦化工艺,主要应用于()方面。
A、大马士革工艺

B、层间介质(ILD)CMP

C、浅沟槽隔离(STI)CMP

D、钨的CMP

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第6题

下列属于金属材料的性能的有()。

A.物理性能

B.化学性能

C.机械性能

D.工艺性能

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第7题

材料的()性能是指抵抗外力的能力。

A.机械

B.物理

C.化学

D.工艺

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第8题

商品性能主要包括商品()等方面的性能。

A.物理、化学、机械、工艺学、生物学

B.物理、化学、包装、品牌

C.物理、化学、机械、使用

D.物理、化学、机械、工艺学、数学

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第9题

生产、储存重点监管的危险化学品的企业,应根据本企业工艺特点,装备功能完善的自动化控制系统,构成重大危险源的生产储存装置,应装备自动化控制系统,实现对温度、压力、液位等重要参数的实时监测。

此题为判断题(对,错)。

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第10题

异种钢焊接之所以困难, 主要是由于两者的( )等差异较大。

A.化学成分

B.物理性能

C.机械性能

D.工艺性能

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