题目内容
（请给出正确答案）
[多选题]
化学机械抛光CMP工艺中影响抛光质量的三大关键要素是（)。
A.抛光机
B.抛光液
C.抛光垫
D.后清洗设备
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B、CMP进行平坦化的同时也会引入新的缺陷
C、需要配套的设备、材料、工艺控制技术，这是一个需要开发、提高的系统工程
D、设备、技术、耗材比较便宜，维护也较为简单
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第2题
独立的系统都必须具备三大要素，下列要素中，不属于三大要素的是（ ）。A.系统的联系及其影响###SXB#
独立的系统都必须具备三大要素，下列要素中，不属于三大要素的是（ ）。
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A.系统的联系及其影响
B.系统的部分及其属性
C.系统的环境及其界限
D.系统的输入与输出
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