题目内容
(请给出正确答案)
[单选题]
题3-2-12 以下是物理气相沉积工艺中真空蒸镀法的缺点是
A.设备简单,操作容易
B.所制备的薄膜纯度较高,厚度控制较精确,成膜速率快
C.生长机理简单
D.工艺重复性不够理想
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A.设备简单,操作容易
B.所制备的薄膜纯度较高,厚度控制较精确,成膜速率快
C.生长机理简单
D.工艺重复性不够理想
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