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[多选题]

目前常用刀具涂层方法有（)。

A.化学气相沉积法

B.物理气相沉积法

C.盐浴浸镀法

D.等离子喷涂

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第1题

表面气相沉积包括化学气相沉积和物理气相沉积。（)

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第2题

化学气相沉积直接制备多晶硅薄膜的方法有()。

A.等离子增强化学气相沉积

B.热丝化学气相沉积制备多晶硅

C.低压化学气相沉积制备多晶硅

D.非晶硅晶化制备多晶硅薄膜

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第3题

表面热处理包括：表面淬火、物理气相沉积和化学气相沉积。（)

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第4题

目前正在广泛研究的有化学气相沉积法、()、固相结晶、等。

目前正在广泛研究的有化学气相沉积法、（)、固相结晶、等。

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第5题

物理气相沉积法的共同特点？

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第6题

物理气相沉积是利用蒸镀或溅射材料来制备镀膜的。（)

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第7题

物理气相沉积简称（)。

A.LVD

B.PED

C.CVD

D.PVD

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第8题

在多晶硅电池片上用等离子体进行的化学气相沉积法生产的氮化硅膜会产生哪两种效果？

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第9题

在岩石地层学方法中，常用的方法有岩性法、标志层法和沉积旋回法（）

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第10题

气相色谱定性方法有

A.保留指数定性法

B.两谱联用定性法

C.相对保留值定性法

D.已知物对照法

E.归一化法

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