黄某欲申请集成电路布图设计保护，若发生下列（）情形，则该布图设计能受到集成电路布图设计专有权保护

B．黄某没有将布图设计投入商业利用，但提交的是布图设计的复制件或者图样

C．黄某的布图设计在英国首次商业利用刚满1年

D．黄某提交的申请文件使用的是中文

B．王某没有将布图设计投人商业利用，但提交的是布图设计的复制件或者图样

C．王某的布图设计在英国首次商业利用刚满1年

D．王某提交的申请文件使用的是英文

B．刘某布图设计自创作完成之日起刚满5年

C．秦某布图设计保护申请的类别不明确，难以确定其属于布图设计

D．赵某未按规定委托代理机构

E．孙某的申请文件使用的是德文

B.复审请求人对复审请求审查决定不服的

C.集成电路布图设计登记申请人对驳回登记申请的决定不服的

D.专利权人或者专利实施强制许可的被许可人对强制许可使用费的裁决不服的

B．将含有受保护布图设计的集成电路以及含有该集成电路的物品投入商业利用

C．对受保护的布图设计的全部进行复制

D．对受保护的布图设计的任何具有独创性的部分进行复制

B．由近亲属共同享有

C．由国家知识产权局决定某个主体享有

D．在保护期内依照继承法的规定转移

B.将含有该集成电路的物品投入商业利用

C.对受保护的布图设计的全部进行复制

D.对受保护的布图设计的任何具有独创性的部分进行复制

A.布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生

B.未经登记的布图设计不受集成电路布图设计保护条例的保护

C.无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起10年后，不再受集成电路布图设计保护条例的保护

D.布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记

A、布图设计专有权经国家知识产权局登记产生

B、布图设计专有权自创作完成之日起自动产生

C、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计登记申请之日起计算，

D、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计创作完成之日起计算

B．乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制

C．丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用

D．丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用