X公司和Y公司合作创作集成电路布图设计,若创作完成后,其专有权()
A.未作约定的,其专有权由X公司享有
B.未作约定的,其专有权由Y公司享有
C.未作约定的,其专有权由X公司和Y公司共同享有
D.即使已做约定,也一律由X公司和Y公司共同享有
A.未作约定的,其专有权由X公司享有
B.未作约定的,其专有权由Y公司享有
C.未作约定的,其专有权由X公司和Y公司共同享有
D.即使已做约定,也一律由X公司和Y公司共同享有
第2题
A.10年,自布图设计创作完成之日起计算
B.15年,自布图设计登记申请之日起计算
C.15年,自布图设计首次投入商业利用之日起计算
D.10年,自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算
第4题
A.10年,自布图设计创作完成之日起计算
B.15年,自布图设计登记申请之日起计算
C.15年,自布图设计首次投入商业利用之日起计算
D.10年,自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算
第5题
A.布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生
B.未经登记的布图设计不受集成电路布图设计保护条例的保护
C.无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起10年后,不再受集成电路布图设计保护条例的保护
D.布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记
第6题
A、布图设计专有权经国家知识产权局登记产生
B、布图设计专有权自创作完成之日起自动产生
C、布图设计专有权的保护期为15年,自布图设计登记申请之日起计算,
D、布图设计专有权的保护期为15年,自布图设计创作完成之日起计算
第7题
A.单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计
B.对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制
C.将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用
D.将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
第9题
A.外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
B.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权。
C.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
D.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
第10题
A.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权
B.外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
C.外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的,依照本条例享有布图设计专有权。
D.中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计,可以依照本条例享有布图设计专有权。
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