在我国，集成电路布图设计专有权的保护期为（）.

A.10年，自布图设计创作完成之日起计算

B.15年，自布图设计登记申请之日起计算

C.15年，自布图设计首次投入商业利用之日起计算

D.10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算

  A．5年  B．8年  C．10年  D．15年

B 申请审查原则

C 登记原则

D 商业使用原则

A.布图设计专有权的取得方式是登记

B.布图设计专有权的保护期为10年，自授权公告之日起算

C.对布图设计专有权可以适用强制许可

D.对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权

E.布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效

A、布图设计专有权经国家知识产权局登记产生

B、布图设计专有权自创作完成之日起自动产生

C、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计登记申请之日起计算，

D、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计创作完成之日起计算

此题为判断题(对，错)。

A.布图设计专有权的取得方式是登记

B.布图设计专有权的保护期为10年，自授权公告之日起算

C.对布图设计专有权可以适用强制许可

D.对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权

E.布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效

  A．受保护的布图设计应当具有独创性

  B．受保护的布图设计应当具有实用性

  C．在我国，布图设计专有权需经国家知识产权局登记产生

  D．布图设计专有权的保护期为10年，一律自布图设计登记申请之日起计算

A.国家知识产权局

B.工业和信息化部

C.国家工商行政管理总局

A.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权

B.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。

C.外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。

D.中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计，可以依照本条例享有布图设计专有权。