题目内容
(请给出正确答案)
[单选题]
磁控溅射法属于下列哪类半导体薄膜的制备方法
A.物理气相沉积(PVD)
B.化学气相沉积(CVD)
C.液相外延(LPE)
D.湿化学方法 (WCM)
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A.物理气相沉积(PVD)
B.化学气相沉积(CVD)
C.液相外延(LPE)
D.湿化学方法 (WCM)
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