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[单选题]

磁控溅射法属于下列哪类半导体薄膜的制备方法

A.物理气相沉积(PVD)

B.化学气相沉积(CVD)

C.液相外延(LPE)

D.湿化学方法 (WCM)

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第1题

根据本实验室设备,设计一个用射频磁控溅射法制备ZnO掺Ga的GZO薄膜制备方案(注意有三种元素)
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第2题

电子束蒸发和磁控溅射法都属于PVD范畴。()

此题为判断题(对,错)。

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第3题

下列可用于非晶体金属薄膜制备的方法是()

A、液态骤冷工艺

B、离子溅射

C、电解沉积

D、蒸发镀

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第4题

下列哪些方法属于bottom up的制备路线?

A、粉碎法

B、磁控溅射法

C、高能球磨法

D、水热法

E、化学气相沉积法

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第5题

与普通溅射法相比,磁控溅射的特点是什么?
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第6题

直流磁控溅射法能使用绝缘材料制成的靶材
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第7题

制备TiO2等介质薄膜可以采用 溅射方法。
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第8题

多晶硅薄膜通常采取哪种方法制备:

A、APCVD

B、磁控溅射

C、LPCVD

D、VPE

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第9题

最常用的金属薄膜制备方法有

A、电阻加热蒸发

B、电子束蒸发

C、溅射

D、热氧化

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第10题

常见的PVD薄膜制备方法包括

A、热氧化

B、蒸发

C、溅射

D、刻蚀

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