直流磁控溅射法能使用绝缘材料制成的靶材

A、二氧化硅

B、环氧树脂

C、氧化铟锡

D、碳铁合金

此题为判断题(对，错)。

A、物理气相沉积（PVD）

B、化学气相沉积（CVD）

C、液相外延（LPE）

D、湿化学方法 （WCM）

A、钴

B、三氧化二铝

C、氧化硅

D、铝

A、直流溅射

B、射频溅射

C、三极溅射

D、低温磁控溅射

A.电子

B.中性粒子

C.带能离子