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[主观题]

集成电路制造工艺需要用到光刻、刻蚀、掺杂、氧化等工艺,是一个非常复杂经过多道工序的过程。

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第1题

集成电路制备工艺的特点:一种工艺可以制备多种的集成电路。
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第2题

集成电路按照制造工艺可分为()。
A.半导体集成电路

B.薄膜集成电路

C.数字集成电路

D.厚膜集成电路

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第3题

列举集成电路工艺里氧化物的应用有()。
A、栅介质

B、保护层

C、绝缘层和钝化层

D、隔离层

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第4题

在集成电路制造过程的图形制备的最后一道工序是光刻胶去除,这一过程叫去胶,常用的去胶方法有()。
A、溶剂去胶

B、氧化去胶

C、物理去胶

D、等离子体去胶

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第5题

氧化硅的化学机械抛光是集成电路制造中最先进和最广泛的平坦化工艺,主要应用于()方面。
A、大马士革工艺

B、层间介质(ILD)CMP

C、浅沟槽隔离(STI)CMP

D、钨的CMP

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第6题

支持多媒体的关键技术是( )、大容量光盘存储器、大规模集成电路制造技术和高速计算机网络的传送。其中,需要大容量光盘存储器支持的原因首先是数字化的多媒体信息虽经压缩处理,但仍占用很大的空间,其次是为了利于多媒体信息和软件的发行。

A.编码技术

B.大容量光盘存储器

C.大容量硬盘

D.数字压缩技术

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第7题

复杂直流电路指的是含有多个电源的电路( )

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第8题

右图电路是由一个555集成定时器构成的( )。[图] A. 多...

右图电路是由一个555集成定时器构成的( )。A. 多弦振荡器 B. 单稳态触发器 C. 施密特触发器 D. 正弦波振荡电路

A、多弦振荡器

B、单稳态触发器

C、施密特触发器

D、正弦波振荡电路

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第9题

简述多层印制电路基板制造工艺?

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第10题

【多选题】关于集成电路,下列说法正确的是:

A、从逻辑功能来说,可以分为通用型和专用型两类。

B、目前集成电路大都是CMOS型

C、从集成规模来说,可以分为小规模、中规模和大规模集成电路

D、集成电路的一个缺点是功耗高

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