第1题
A、沉积速度快
B、绕射性好
C、可镀材料广泛
D、和膜层结合力高
第2题
A、设备简单,操作容易
B、所制备的薄膜纯度较高,厚度控制较精确,成膜速率快
C、生长机理简单
D、工艺重复性不够理想
第3题
此题为判断题(对,错)。
第4题
第5题
第6题
第7题
A. 蒸镀
B. 溅射
C. 离子注入
D. CVD
第8题
第9题
第10题
A、保证荧光屏等电位
B、防止荧光屏发射的光照射光电阴极
C、导走荧光屏上积累的光电子保证后继的光电子到达荧光屏发光
D、将荧光粉发出的光反射到荧光屏窗口方向
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