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物理气相沉积是利用气体物质在固体表面沉积成膜的技术,包括蒸镀,溅射,离子镀。

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第1题

离子镀技术结合了蒸镀和溅射镀膜两种技术的优点,分别是:

A、沉积速度快

B、绕射性好

C、可镀材料广泛

D、和膜层结合力高

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第2题

题3-2-12 以下是物理气相沉积工艺中真空蒸镀法的缺点是 。

A、设备简单,操作容易

B、所制备的薄膜纯度较高,厚度控制较精确,成膜速率快

C、生长机理简单

D、工艺重复性不够理想

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第3题

离子溅射镀膜与离子镀过程原理是一样的。()

此题为判断题(对,错)。

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第4题

化学溶液镀膜是指在溶液中利用化学反应或电化学原理在基体材料表面上沉积成膜的一种技术。它包括各种化学反应沉积、阳极氧化、电镀等。
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第5题

蒸镀纯金属膜中,90%是______。
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第6题

溅射是用离子轰击靶材,将靶材原子打出来,再沉积到基片上成膜的镀膜技术。
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第7题

()是通过把被蒸物体加热,利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。

A. 蒸镀

B. 溅射

C. 离子注入

D. CVD

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第8题

铠装热电偶是利用真空镀膜法将两电极材料蒸镀在绝缘基底上的薄膜热电偶。()

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第9题

离子镀的技术基础是______,离子镀的基本过程包括镀膜材料的______、______、______和______。
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第10题

荧光屏表面蒸镀铝膜的作用在于

A、保证荧光屏等电位

B、防止荧光屏发射的光照射光电阴极

C、导走荧光屏上积累的光电子保证后继的光电子到达荧光屏发光

D、将荧光粉发出的光反射到荧光屏窗口方向

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