关于光纤制备工艺的说法正确的是()。
A.实心的预制棒的折射率的剖面和要得到的光纤区别非常大
B.制备对纤芯的材料、包层特别是靠外面的包层材料要求都非常高
C.OVD,MCVD以及PCVD工艺不需要预制棒熔缩
D.纤芯可采用预制棒的工艺来制备,包层则可通过套棒的工艺实现
A.实心的预制棒的折射率的剖面和要得到的光纤区别非常大
B.制备对纤芯的材料、包层特别是靠外面的包层材料要求都非常高
C.OVD,MCVD以及PCVD工艺不需要预制棒熔缩
D.纤芯可采用预制棒的工艺来制备,包层则可通过套棒的工艺实现
第1题
A.实心的预制棒的折射率的剖面和要得到的光纤是完全一样的
B.制备对纤芯的材料、包层特别是靠外面的包层材料要求都非常高
C.套棒步骤之后并不能进行拉丝工艺
D.包层的作用是构成芯包结构,实现光波导,同时用来传输模式
第2题
A.浸蚀法制备光纤耦合器的步骤包括腐蚀、匹配和胶合
B.磨削法制备光纤耦合器的步骤主要包括研磨、匹配、对拼、胶合等
C.熔锥法制备光纤耦合器的步骤包含胶合、加热拉锥等
D.目前制备光纤耦合器最常用的方法为浸蚀法
第3题
A.掺杂二氧化锗或者五氧化二磷可以降低纤芯折射率
B.掺杂三氧化二硼可以提高纤芯折射率
C.高质量的光纤通常采用“预制棒-拉丝”工艺来制备的
D.光纤制备工艺中的清洗步骤使用高压水枪清洗设备
第4题
A.掺杂二氧化锗或者五氧化二磷可以提高纤芯折射率
B.掺杂三氧化二硼可以提高纤芯折射率
C.高质量的光纤通常采用“预制棒-拉丝”工艺来制备的
D.光纤制备工艺中的清洗步骤使用超声清洗设备
第6题
A.由于全内反射型光子晶体光纤具有高非线性,可以用于超连续谱光源的制备
B.全内反射型光子晶体光纤可以用于色散控制
C.全内反射型光子晶体光纤可以用于多芯光纤的制备
D.全内反射型光子晶体光纤可以用于制备气体传感器
第9题
制备工艺中有预冻、干燥等步骤的剂型是
A、散剂
B、颗粒剂
C、丸剂
D、浸膏剂
E、注射用冻干制品
为了保护您的账号安全,请在“上学吧”公众号进行验证,点击“官网服务”-“账号验证”后输入验证码“”完成验证,验证成功后方可继续查看答案!