题目内容（请给出正确答案）

[单选题]

平行四边形机构()急回特性。

A.一定有

B.一定没有

C.当行程速度变化系数k≠1时就有

D.当极位夹角q≠0°时就有

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第1题

从机理上分析，可以将整个溅射分解为四个过程，分别是()、()、()及()。

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第2题

一对渐开线直齿圆柱齿轮传动时，若重合度等于1.3，这表明啮合点沿公法线方向等速移动一个法节的

距离时，有()的时间是一对齿啮合。

A、70%

B、30%

C、60%

D、50%

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第3题

以下是正确的版图设计步骤的是()。A、先画版图，再设计线路图，然后做LVS,最后是DRCB、先画线路图，

以下是正确的版图设计步骤的是()。

A、先画版图，再设计线路图，然后做LVS,最后是DRC

B、先画线路图，再设计版图，然后做DRC,最后是LVS

C、先画DRC，再设计线路图，然后做LVS,最后是版图

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第4题

硅单晶氧化速度最快的晶向是()。

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第5题

微电子工艺实验室净化的三道防线分别是()()、()()及()()。

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第6题

固态物质可分为两大类，即()和()。

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第7题

集成电路版图设计按设计自动化程度来分有:()和()。

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第8题

半导体工艺中Si3N4一般采用()进行腐蚀，而SiO2则一般采用()进行腐蚀，Si则一般采用()和()进行腐

蚀。

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第9题

LVS的作用是检查所设计的版图是否与所设计的()完全一致。A、结构图B、电路性能C、电路图

LVS的作用是检查所设计的版图是否与所设计的()完全一致。

A、结构图

B、电路性能

C、电路图

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第10题

掺杂是指在衬底选择区域掺入定量杂质，包括()和()两项工艺。

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