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[填空题]

发射区重掺杂效应是指当发射区掺杂浓度太高时,不但不能提高(),反而会使其()。

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第1题

晶体三极管发射区掺杂浓度远大于基区掺杂浓度。()

晶体三极管发射区掺杂浓度远大于基区掺杂浓度。()

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第2题

从提高晶体管放大能力出发,除了将晶体管基区做得很薄,且掺杂浓度很低之外,工艺上还要采取如下措施 。

A.发射区掺杂浓度高,集电结面积大

B.发射区掺杂浓度高,集电结面积小

C.发射区掺杂浓度低,集电结面积小

D.发射区掺杂浓度低,集电结面积大

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第3题

从提高晶体管放大能力出发,除了将晶体管基区做得很薄,且掺杂浓度很低之外,工艺上还要采取如下措施()

A.发射区掺杂浓度高,集电结面积小

B.发射区掺杂浓度高,集电结面积大

C.发射区掺杂浓度低,集电结面积小

D.发射区掺杂浓度第低,集电结面积大

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第4题

【单选题】BJT的内部结构特点如下:()

A.发射区重掺杂,基区很薄且轻掺杂,集电区面积大且掺杂较发射区轻;

B.集电区重掺杂,基区很薄且轻掺杂,发射区面积大且掺杂较集电区轻;

C.基区重掺杂,集电区很薄且轻掺杂,发射区面积大且掺杂较基区轻;

D.发射区重掺杂,集电区很薄且轻掺杂,基区面积大且掺杂较发射区轻。

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第5题

制造晶体管时要求发射区的掺杂浓度远大于基区的掺杂浓度。
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第6题

有关NPN型三极管内部结构特点,说法正确的是 。

A.发射区的掺杂浓度比基区要低

B.集电结面积可大可小,对三极管无影响

C.发射区掺杂浓度可大可小,对三极管无影响

D.发射区、基区、集电区中,发射区掺杂浓度要最高

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第7题

关于BJT的结构特点说法错误的是()。

A.基区很薄且掺杂浓度很低

B.发射区的掺杂浓度远大于集电区掺杂浓度

C.基区的掺杂浓度远大于集电区掺杂浓度

D.集电区面积大于发射区面积

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第8题

三极管BJT制作时,通常基区掺杂浓度低;发射区的杂质浓度则很高。()

三极管BJT制作时,通常基区掺杂浓度低;发射区的杂质浓度则很高。()

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第9题

以npn型双极型晶体管为例,以下关于发射区重掺杂效应的说法中错误的是()。

A、发射区重掺杂导致杂质能级分裂,禁带宽度变窄,增大

B、发射区重掺杂导致电子浓度升高,增大,发射效率提高

C、俄歇复合增强,空穴寿命减小,扩散长度减小,增大

D、考虑发射效率公式,放大系数减小

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第10题

三极管发射区的掺杂浓度大,集电极掺杂浓度低。()
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第11题

从三极管的内部制造工艺来看,主要由以下两个特点()。

A.发射区低掺杂

B.发射区高掺杂

C.基区很薄,且掺杂浓度较低

D.基区较厚,且高掺杂

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