高纯水制备工技能鉴定题目
高纯水的应用：主要应用在电子和微电子工业上，也用于食品、造纸、医药等行业。随着半导体器件由过去的单电路发展到集成电路，对水质的要求就越来越高。在半导体切片和研磨过程中，须用高纯水进行清洗，即使只有微粒尘埃杂质，也会影响产品质量。
[主观题]
膜组件的保护：短期停机的情况下，停机（)天以内，请在膜组件内部充水的状态下停机;如果达（)左右时
膜组件的保护：短期停机的情况下，停机()天以内，请在膜组件内部充水的状态下停机;如果达()左右时，请注入浓度为20mg/L的次氯酸钠溶液;()停机的情况下，膜组件要先经过次氯酸钠药洗后，再注入浓度为1%的亚硫酸氢钠溶液。
[主观题]
水泵故障的四种表现：（)、（)、（)和（)。
[主观题]
系统在启动运行时先（)，再延时启动水泵。
[主观题]
系统运行状态有模拟流程板指示灯显示状态，运行时（)，故障时（)。
[主观题]
UF超滤是一种与膜孔径大小相关的筛分过程，以膜两侧的（)为驱动力，以（)为过滤介质，在一定的压力
UF超滤是一种与膜孔径大小相关的筛分过程，以膜两侧的()为驱动力，以()为过滤介质，在一定的压力下，当原液流过膜表面时，超滤膜表面密布的许多细小的微孔只允许水及小分子物质通过而成为透过液，而原液中体积大于膜表面微孔径的物质则被截留在膜的进液侧，成为浓缩液，因而实现对原液的()的目的。
[主观题]
膜组件的清洗分为物理清洗和化学清洗。物理清洗分为（);化学清洗需要的化学药剂碱清洗、次氯酸钠清洗、稀酸清洗等等。
[主观题]
简述RO系统启动后的检查程序
[主观题]
EDI组件规格：（);处理流量：15.5T/HR/块;出水水质：≥15MΩ.CM;
[主观题]
简述使用UV杀菌机时的注意事项。
[主观题]
当系统出现水箱渴水、气源低压、进水低压、水质异常、流量下降等状态时按一下（)能复位（声音消除)。
[主观题]
盘式过滤器共有两种运行状态：（)。
[主观题]
超滤装置规格形式：60T/H纯水系统采用美国诺瑞特超滤膜，（)支/套，处理能力：（)，截流分子量：（)道尔顿，设计产水量：（)/支。
[主观题]
过滤器其作用是截留水中（)微米的颗粒，以保证反渗透膜、EDI膜不被大颗粒的悬浮物划伤及造成堵塞。
[主观题]
简述RO的系统的自动冲洗功能。
[主观题]
盘式过滤器在系统中的作用：（)。
[主观题]
控制系统设计为（)，正常情况下只需将开关置于自动状态下即可。
[主观题]
盘式过滤器故障检查与排除：（)。
[主观题]
简述水泵的维护与保养。
[主观题]
RO原理：RO纯水系统对有机物的去除率可达99.9%以上，而对于无机盐类，则可达（)左右，换句话说，因其
RO原理：RO纯水系统对有机物的去除率可达99.9%以上，而对于无机盐类，则可达()左右，换句话说，因其有除离子的精细能力，故可由水的阻值，即由系统的进水口与出水口的相对值来比较，求得其运转的效率。对于RO系统除矿物质及有机物的能力，由于周期性冲洗、药洗的操作，故可保持稳定的产水品质。
[主观题]
连续电化去离子系统（CEDI)之技术是利用两端电极产生之高电压使水中之带电离子移动,并配合（)及选择性树脂以加速离子移动去除,进而达到（)之目的。
[主观题]
系统出现水箱渴水、（)、（)水质异常、流量下降等状态时出现声音报警。
