造成晶界附近的“无析出带”的原因主要是 形核机制

A.弥散强化

B.加工硬化

C.细晶强化

D.固溶强化

A.胶粒带正电荷.

B.胶核带正电荷.

C.胶团带正电荷.

D.胶体带正电荷.

A.晶体中点缺陷的移动

B.晶体中线缺陷的移动

C.晶体中点阵滑移

D.晶体晶界缺陷

A.由点缺陷堆集而成

B.由位错垂直排列成位错墙面构成

C.由晶界间的相互作用构成

D.由杂质和空位混合组成