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[单选题]

在杂质半导体中,少数载流子的浓度主要取决于 。

A.温度

B.杂质浓度

C.晶体缺陷

D.掺杂工艺

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第1题

在杂质半导体中少数载流子的浓度主要取决于().

A.杂质浓度

B.掺杂工艺

C.温度

D.晶体缺陷

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第2题

在杂质半导体中,多数载流子的浓度主要取决于温度
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第3题

杂质半导体中随温度升高浓度显著增大的是______

A.多数载流子

B.少数载流子

C.空穴

D.自由电子

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第4题

杂质半导体中其掺杂浓度远大于本征半导体的载流子浓度
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第5题

杂质半导体内部多数载流子为掺入的杂质,少数载流子为本征激发产生的电子与空穴
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第6题

杂质半导体中,少子的浓度主要取决于

A.温度

B.杂质浓度

C.杂质类型

D.晶格缺陷

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第7题

在N型半导体中 为多数载流子, 为少数载流子
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第8题

在N型半导体中,多数载流子是空穴,少数载流子是自由电子
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第9题

对本征半导体,电阻率主要由本征载流子浓度决定;对杂质半导体,电阻率主要由杂质浓度决定
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第10题

用金属探针与半导体接触以测量半导体的电阻率通过采取避免少数载流子注入的影响

A.引入杂质

B.改变接触

C.增加表面复合

D.减少表面复合

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第11题

在绝对零度(0 K)时,本征半导体中载流子

A.有

B.没有

C.少数

D.多数

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