在普通陶瓷坯釉配方中二氧化铝和二氧化硅的摩尔比，瓷坯一般控制在()左右;光亮瓷釉一般控制在()左右。

A.600-800℃

B.800-1000℃

C.1000-1200℃

D.1200-1500℃

坯釉配方

普通陶瓷坯体中蒙脱石用量一般不能超过5%。()

普通陶瓷坯体中磷石英含量一般比方石英高。()

A.5-10min

B.20-30min

C.40-60min

D.60-90min

磁选给入矿浆浓度一般控制在()。

A.20%左右

B.30%左右

C.50%左右

A.4～5

B.5～6

C.5～7

D.0.3～0.4

E.0.3～0.5

F.0.4～0.5