题目内容
（请给出正确答案）
[单选题]
模序（motif）是（ ）
A.肽链中由碱性氨基酸组成的区域
B.肽链中由疏水性氨基酸组成的区域
C.由两个或三个具有二级结构的肽段构成的特殊空间构象
D.由两个或三个具有三级结构的肽段构成的特殊空间构象
E.肽链中由酸性氨酸组成的区域
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第2题
关于集成电路布图设计权，下列表述正确的有( )
A．受保护的布图设计应当具有独创性
B．受保护的布图设计应当具有实用性
C．在我国，布图设计专有权需经国家知识产权局登记产生
D．布图设计专有权的保护期为10年，一律自布图设计登记申请之日起计算
第3题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列说法哪些是正确的？()
A．布图设计专有权经国家知识产权局登记产生
B．布图设计专有权自创作完成之日起自动产生
C．布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计登记申请之日起计算，
D．布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计创作完成之日起计算
第4题
在我国，布图设计专有权的保护期为（)年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入
在我国，布图设计专有权的保护期为()年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起()年后，不再受保护。
A：10、15
B：10、20
C：15、20
第6题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》，下列表述正确的有（）
A．布图设计专有权的取得方式是登记
B．布图设计专有权的保护期为10年，自授权公告之日起算
C．对布图设计专有权可以适用强制许可
D．对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权
E．布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效
第7题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》，下列表述正确的有（）
A．布图设计专有权的取得方式是登记
B．布图设计专有权的保护期为10年，自授权公告之日起算
C．对布图设计专有权可以适用强制许可
D．对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权
E．布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效
第9题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，具备以下条件才能享有布图设计专有权：（）
A．布图设计具有独创性，已投入商业利用，且经国务院知识产权行政部门登记
B．布图设计具有独创性，且经国务院知识产权行政部门登记
C．布图设计经国务院知识产权行政部门登记
D．布图设计具有独创性
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