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反渗透设备膜表面易生成碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等沉积物（）
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第2题
反渗透设备膜表面易生成的沉积物是____
A.碳酸钠、硫酸钠、胶体硅、有机物等
B.氢氧化镁、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等
C.碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等
D.金属氧化物、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等
第3题
反渗透设备膜表面易生成的沉积物是（)。A.碳酸钠、硫酸钠、胶体硅、有机物等B.氢氧化镁、氯化钙、硫酸钙
反渗透设备膜表面易生成的沉积物是()。
A.碳酸钠、硫酸钠、胶体硅、有机物等
B.氢氧化镁、氯化钙、硫酸钙、肢体硅、有机物等
C.碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等
D.金属氧化物、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等
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