题目内容
（请给出正确答案）
A.由于对实用新型专利不进行实质审查，因此，可以把由于不具备新颖性而被驳回的发明专利申请重新提出实用新型专利申请
B.实用新型专利和发明专利的实用性标准是不同的
C.实用新型可授予专利权的对象少于发明专利可授予专利权的对象
D.由于对于实用新型专利申请只审查其形式，因此，实用新型专利申请可以不必清楚，完整地说明其技术方案
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第1题
B．只要雷达功率足够大.不管物标多远，都能探测到它
C．只要天线与物标间无阻挡.不管多远的物标都能探测到它
D．雷达只能探测一定距离范围内且具有一定条件的物标
第2题
B．粗基准选得合适，可重复使用
C．选加工余量最大的表面作粗基准
D．粗基准的选择，应尽可能使加工表面的金属切除量总和最大
第4题
B．只要雷达功率足够大，不管物标多远，都能探测到它
C．只要天线与物标间无阻挡，不管多远的物标都能探测到它
D．雷达只能探测一定距离范围内且具有一定条件的物标
第5题
A. 德拜－休克方程可用于弱电解质水溶液；
B. 德拜－休克方程理论认为水溶液中离子是带电的硬球，电荷不会被极化，离子电场球形对称；
C. 德拜－休克方程可用于浓溶液中离子活度的计算
D. 德拜－休克理论中考虑了水分子与离子间的水化作用
第6题
A. 德拜－休克方程可用于弱电解质水溶液
B. 德拜－休克方程理论认为水溶液中离子是带电的硬球，电荷不会被极化，离子电场球形对称
C. 德拜－休克方程可用于浓溶液中离子活度的计算
D. 德拜－休克理论中考虑了水分子与离子间的水化作用
第7题
A、残差是观测值减去从模型得出拟合值。
B、残差向量的协方差矩阵是
, 其中 H 是帽子矩阵。
C、学生化残差的计算公式是
, 这是一个没有量纲的量。
D、按照线性回归模型的基本假设，残差之间是互不相关的。
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