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[主观题]

集成电路的特征尺寸是衡量集成电路加工工艺水平和()的主要指标。

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第1题

特征尺寸(CD)是衡量集成电路设计和制造工艺水平的重要尺度,特征尺寸为()被称为深亚微米工艺技术层次。
A、40nm

B、0.25um

C、0.35um

D、14nm

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第2题

什么是特征尺寸?它对集成电路工艺有何影响?

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第3题

以下集成电路()是GTR的专用集成电路。

A. HL201A/HL202A

B. B.IR2110、IR2115、IR2130

C. C.EXB35N系列

D. D.FA5310、FA5311

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第4题

在下列有关集成电路和叙述中,错误的是()

A. 集成电路的规模是根据其所包含的电子元件数目进行划分的

B. 大规模集成电路一般以功能部件和子系统为集成对象

C. 现代集成电路使用的半导体材料主要是硅(Si)

D. 集成电路技术发展很快,至2005年初已达到0.001微米的工艺水平

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