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[单选题]

恒定表面浓度的条件下,在整个扩散期间,()保持恒定表面浓度。

A.源蒸气

B. 杂质和惰性气体混合物

C. 水蒸气和杂志混合物

D. 杂质、惰性气体、水蒸气混合物

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第1题

遵循在扩散过程中外界始终提供杂质源,硅片表面浓度恒定规律的扩散方法称之为()。
A、有限源表面扩散

B、两步扩散法(包括预扩散和住扩散)

C、恒定源表面扩散

D、自由式扩散

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第2题

浓度差会引起扩散,扩散总是从高浓度处向低浓度处进行。()

A.错误

B.正确

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第3题

系统中存在下述两个化学反应:

假设反应中不断供给反应物A和B,使其浓度保持恒定,并不断将生成物C排除,因此只有X的浓度nx可以发生改变.假设扩散可以忽略,试写出nx的变化率方程,求方程的定常解,并分析解的稳定性.

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第4题

系统中存在下述两个化学反应:

假设反应中不断供给反应物A和B,使其浓度保持恒定,并不断将生成物C排除.因此,只有X的分子数密度nx可以随时间变化.在扩散可以忽略的情形下,nx的变化率

引入变量

上述方程可以表为

试求方程的定常解,并分析解的稳定性.

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第5题

通常情况下,当氧化物在杂质浓度较低时,其在高温条件下引起的扩散主要是()。

A.本征扩散

B.非本征扩散

C.互扩散

D.A+B

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第6题

扩散的推动力是浓度梯度,所有扩散系统中,物质都是由高浓度处向低浓度处扩散。()

A.错误

B.正确

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第7题

掺杂中的两步扩散法的第一步是采用恒定表面源扩散的方式,第二步是采用()扩散方法。

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