题目内容
(请给出正确答案)
[主观题]
胶粒表面电荷的主要来源有:()、()、离子吸附作用以及末饱和键等。
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第11题
A. 在精制反应器中,在流体分布均匀的前提下,床层出入口外润温分率无变化
B. 在精制反应器中,在流体分布均匀的前提下,床层出入口外润温分率变化很大
C. 在裂化反应器中,在流体分布均匀的前提下,床层出入口外润温分率无变化
D. 在裂化反应器中,在流体分布均匀的前提下,床层出入口外润温变化很大
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