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[主观题]

如图8.16(a)所示,在半导体pn结附近总是堆积着正、负电荷,n区内是正电荷,p区内是负电荷,两区内的

如图8.16(a)所示,在半导体pn结附近总是堆积着正、负电荷,n区内是正电荷,p区内是负电荷,两区内的电量相等。把pn结看作一对带正、负电荷的“无限大”平板,它们相互接触,x轴的原点取在pn结的交接面上,方向垂直于板面。如图8.16(a)所示,在半导体pn结附近总是堆积着正、负电荷,n区内是正电荷,p区内是负电荷,两区,设两区内电荷分布都是均匀的。

如图8.16(a)所示,在半导体pn结附近总是堆积着正、负电荷,n区内是正电荷,p区内是负电荷,两区

如图8.16(a)所示,在半导体pn结附近总是堆积着正、负电荷,n区内是正电荷,p区内是负电荷,两区

这种分布称为实变形模型,其中ND,NA都是常数,且有如图8.16(a)所示,在半导体pn结附近总是堆积着正、负电荷,n区内是正电荷,p区内是负电荷,两区(两区内的电荷数量相等)。试证电场强度的大小为:

如图8.16(a)所示,在半导体pn结附近总是堆积着正、负电荷,n区内是正电荷,p区内是负电荷,两区

并画出ρe(x)和E(x)随x的变化曲线。

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