基底面与牙槽嵴接触面呈船底形

A、10～20ml

B、20～25ml

C、30～35ml

D、45～50ml

E、55～60ml

A、3％

B、97％

C、70％

D、30％

E、45％～50％

A、0．1％

B、0．2％

C、0．05％

D、0．25％

E、3％

A、上颌前弓区应尽量延长

B、后缘伸至颊间隙

C、后部止于腭小凹前2mm

D、唇颊系带区应避开

E、后部止于腭小凹后2mm

A、急性龋

B、慢性龋

C、继发龋

D、平滑面龋

E、线性釉质龋

A、切缘2．0～2．5mm，唇侧1．5mm，舌侧1．0mm

B、切缘1．5～2．0mm，唇侧1．0mm，舌侧0．5～1．0mm

C、切缘2．0～2．5mm，唇侧1．0mm，舌侧0．5～1．0mm

D、切缘1．5～2．0mm，唇侧1．5mm，舌侧0～1．0mm

E、切缘1．5～2．0mm，唇侧1．0mm,舌侧1．5mm

A、头颅侧位片

B、曲面断层

C、经咽侧位片

D、手腕骨片

E、头颅后前位

A、唇部

B、口角区

C、牙龈

D、双颊咬合线处

E、舌部

A、≥3mm

B、≥4mm

C、≥5mm

D、≥6mm

E、≥7mm

A、10～20℃

B、20～40℃

C、50～150℃

D、150～200℃

E、200～250℃