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关于电离室自动曝光控制叙述错误的是A.利用气体的电离效应B.X线强度大时,电离电流大C.X线强度大
关于电离室自动曝光控制叙述错误的是
A.利用气体的电离效应
B.X线强度大时,电离电流大
C.X线强度大时,曝光时间短
D.电容充电电流与X线曝光量成反比
E.电离电流小时,需要的曝光时间长
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关于电离室自动曝光控制叙述错误的是
A.利用气体的电离效应
B.X线强度大时,电离电流大
C.X线强度大时,曝光时间短
D.电容充电电流与X线曝光量成反比
E.电离电流小时,需要的曝光时间长
第1题
A. 有光电管自动曝光控制
B. 有电离室自动曝光控制
C. 光电管自动曝光控制的基础是荧光效
D. 电离室自动曝光控制的基础是电离效应
E. -DSA检查一般选择手动曝光条件
第2题
A. 有光电管自动曝光控制
B. 有电离室自动曝光控制
C. 光电管自动曝光控制的基础是荧光效应
D. 电离室自动曝光控制的基础是电离效应
E. -DSA检查一般选择手动曝光条件
第3题
关于电离室控时自动曝光控制叙述错误的是
A、利用气体的电离效应
B、X线强度大时,电离电流大
C、X线强度大时,曝光时间长
D、电容充电电流与X线曝光量成反比
E、电离电流小时,曝光时间长
第4题
A.电离室自动曝光控时原理是利用X线对气体的电离作用
B.电离室内的气体被电离后不会在回路中形成电流
C.电离室放在人体与胶片之间
D.当X线胶片达到一定密度时,执行元件切断曝光
第5题
A.利用气体的电离效应
B.X线强度大时,电离电流大
C.X线强度大时,曝光时间长
D.电容充电电流与X线曝光量呈反比
E.电离电流小时,曝光时间长
第7题
关于自动曝光控制(AEC)的解释,错误的是
A、根据被照体厚薄预先确定曝光量
B、有电离室式探测器
C、AEC的管电压特性与所用屏/片体系的管电压特性有关
D、有半导体式探测器
E、探测器的采光野位置应根据摄影部位选择
第8题
关于自动曝光量控制(AEC)的叙述,错误的是
A.被照体很薄时,AEC也可立即切断X线
B.探测器有电离室式、半导体、荧光体三种
C.AEC的管电压特性与所用屏胶体系的管电压特性有关
D.探测器置于屏胶体系之前还是之后,效果不一样
E.探测器的探测野位置、形状、数量应根据摄影部位选择
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