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[单选题]

悬浮区熔法检验硅多晶中基磷含量时,采用快速区熔法的工艺,第一次区熔时,第一次熔区停留挥发时间()左右。

A.3min

B. 5min

C. 10min

D. 20min

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第1题

简述悬浮区熔法检验硅多晶中硼、磷含量的原理.
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第2题

悬浮区熔法检验多晶硅中基磷含量时,采用快速区熔法的工艺时,第一次区熔时,第一区熔区停留挥发时间()左右。

A.3min

B.5min

C.7min

D.10min

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第3题

悬浮区熔法检验多晶硅中基磷含量时,采用快速区熔法的工艺时,第一次区熔时,第一区熔区停留挥发时间()左右

A.3min

B.5min

C.7min

D.10min

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第4题

采用悬浮区熔法测多晶硅中磷原子含量必须知道其基硼含量()
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第5题

经过多次真空区熔扫本底后的晶体,将成为一根无补偿的P型晶体,这样它的电阻率的高低就能代表原始硅多晶中的______含量

A.氧

B.基磷

C.基硼

D.碳

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第6题

采用悬浮区熔提纯后的硅中基硼含量计算需要的参数包括______

A.P型硅电阻率

B.电子电荷

C.空穴迁移率

D.电子迁移率

E.N型硅电阻率

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第7题

下面几种方法中,不属于硅材料的提纯方法是()。

A.改良西门子法

B. 硅烷法

C. 悬浮区熔法

D. 流化床法

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第8题

下面几种方法中,不属于硅材料的提纯方法是()

A.改良西门子法

B.硅烷法

C.悬浮区熔法

D.流化床法

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第9题

当前,单晶硅的制备中85%左右都是采用()。

A.还原法

B.氧化法

C.悬浮区熔法

D.直拉法

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第10题

当前,单晶硅的制备中85%左右都是采用()。

A.悬浮区熔法

B.氧化法

C.还原法

D.直拉法

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