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[主观题]
试说明为什么三甲硅烷基胺分子（SiH3)3N是弱的路易斯碱，而三甲基胺分子（CH3)3N的碱性较强（前者为
试说明为什么三甲硅烷基胺分子(SiH3)3N是弱的路易斯碱，而三甲基胺分子(CH3)3N的碱性较强(前者为平面三角形，后者为三角锥形)。
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第2题
提供两种硅器件的腐蚀剂，写出有关的反应方程式。半导体工业生产单质硅过程中有三个重要反应，请写出生产纯硅有关反应方程式。 (1)二氧化硅用碳还原为粗硅。 (2)硅被氯气氧化生成四氯化硅。 (3)四氯化硅被镁还原生成纯硅。
请帮忙给出正确答案和分析，谢谢！
第3题
锗作为半导体材料，必须具有极高的纯度。制备化学纯锗的流程如下：
根据上述流程回答： (1)为了提高GeCl4的产率可采取哪些简便措施?如果温度控制过高，将出现何种结果? (2)在粗的GeO2中常含有少量杂质As2O3，为除掉它可加人浓盐酸，并通入大量氯气，使其转化为可溶物而留在溶液中。可溶物是什么?请写出上述两步的反应方程式。 (3)用纯水将GeCl4水解并加热得到高纯度的GeO2，再用锌还原得到纯度为4个“9”(99．99％)的锗，请写出上述各步的反应方程式。
请帮忙给出正确答案和分析，谢谢！
第4题
有一红色固体粉末A，加入HNO3后得棕色沉淀B，把此沉淀分离后，在溶液中加入K2CrO4溶液得黄色沉淀C；向B中加入浓盐酸则有气体D发生，且此气体有氧化性。A、B、C、D各为何物?
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